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光催化設備選型

簡要描述:光催化設備選型利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射廢氣,使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,進行反應生成低分子化合物,如CO2、H2O等。

  • 產品型號:LK-5000
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2023-06-26
  • 訪  問  量:1459

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光催化設備選型

是利用光來激發二氧化太等化合物半導體,利用它們產生的電子空穴來參加氧化—還原反應。 當能量大于或等于能隙的光照射到半導體納米粒子上時,其價帶中的電子將被激發躍遷到導帶,在價帶上留下相對穩定的空穴,從而形成電子—空穴對。由于納米材料中存在大量的缺陷和懸鍵,這些缺陷和懸鍵能俘獲電子或空穴并阻止電子和空穴的重新復合。這些被俘獲的電子和空穴分別擴散到微粒的表面,從而產生了強烈的氧化還原勢。

產品特點

1、能高效去除揮發性有機物及各種惡臭味,適應性強,可每天連續長時間工作,運行穩定可靠

2、惡臭氣體無需進行預處理,運行成本低,設備耗能低,可節約大風量排風動力能耗

3、適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件,無需添加其他物質進行化學反應,只需設置相應的排風管道和排風動力。

 

 

光催化設備選型

工藝原理

光催化通常是指有機物再光的作用下,逐步氧化成低分子中間產物最終生成如CO2,H2O及其他的離子如:NO3-,PO43-,C1-等。有機物的光降解可分為直接光降解,間接光降解。前者是指有機物分子吸收光能后進一步發生的化學反應。后者是周圍環境存在的某些物質吸收光能成激發態,再誘導一系列有機污染的反應。間接光降解對環境中難生物降解的有機污染更為重要。

優點:

操作簡單、能耗低、無二次污染、效率高。
  1. 直接用空氣中的氧氣做氧化劑,反應條件溫和(常溫 常壓) 

  2. 可以將有機污染物分解為二氧化碳和水等無機小分子,凈化效果*。
  3. 半導體光催化劑化學性質穩定,氧化還原性強,成本低,不存在吸附飽和現象,使用壽命長。
  4. 光催化凈化技術具有室溫深度氧,二次污染小,運行成本低和可望利用太陽光為反應光源等優點,所以光催化特別合適室內揮發有機物的凈化,在深度凈化方面顯示出了巨大的應用潛力。 常見的光催化劑多為金屬氧化物和硫化物,其中二氧化太的綜合性能最好,應用*。
 

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